上海予卓?jī)x器有限公司作為目前國(guó)內(nèi)的集開發(fā)、制造和服務(wù)為一體的高企業(yè)，以來專注于分析儀器事業(yè)，明確戰(zhàn)略方向和發(fā)展目標(biāo)，堅(jiān)持不懈，銳意進(jìn)取，營(yíng)造良好的企業(yè)文化。堅(jiān)決實(shí)施產(chǎn)品發(fā)展策略，不斷創(chuàng)新，提高核心技術(shù)，與時(shí)俱進(jìn)，趕超水平，產(chǎn)品門類齊全。

予卓?jī)x器擁有*的優(yōu)勢(shì)和地位，產(chǎn)品門類不斷拓展，技術(shù)水平日益提高，擁有各類電化學(xué)分析儀器、實(shí)驗(yàn)室儀器和應(yīng)用方案各一百余種，其中包括各類實(shí)驗(yàn)室和現(xiàn)場(chǎng)檢測(cè)等系列儀器，在國(guó)內(nèi)電化學(xué)分析儀器行業(yè)*。其中培養(yǎng)箱、搖床、離心機(jī)和各類低溫檢測(cè)設(shè)備為公司主要產(chǎn)品。
“予卓"本著“務(wù)實(shí)、創(chuàng)新、求精、致遠(yuǎn)"的企業(yè)宗旨，推進(jìn)企業(yè)發(fā)展，加快新品開發(fā)，爭(zhēng)創(chuàng)*；嚴(yán)格質(zhì)保體系，確保產(chǎn)品質(zhì)量；快速響應(yīng)機(jī)制，滿足客戶需求；于應(yīng)用方案和系統(tǒng)集成，“一站式"的 服務(wù)。

二氧化硫/鹽霧腐蝕試驗(yàn)箱廣泛應(yīng)用于航空航天、汽車摩托車、兵裝兵器、電工電子、化工冶金、質(zhì)檢計(jì)量、郵電通信、船舶鐵路等企事業(yè)單位及大中專院校和科研單位。
本設(shè)備是用來測(cè)試電工電子產(chǎn)品、電鍍產(chǎn)品及等各種金屬產(chǎn)品的防護(hù)層，是用來考核材料及其防護(hù)層的抗鹽霧腐蝕、抗腐蝕性氣體的能力，以及相似防護(hù)層的工藝質(zhì)量比較，是一種人工模擬鹽霧環(huán)境、氣體腐蝕的試驗(yàn)，是利用含鹽溶液或酸性鹽溶液以及二氧化硫氣體，在一定的溫度和相對(duì)的濕度的環(huán)境下對(duì)材料或產(chǎn)品進(jìn)行加速腐蝕試驗(yàn)，測(cè)試和比對(duì)產(chǎn)品防護(hù)層在一定時(shí)間范圍內(nèi)所遭受的破壞程度。也可以用來考核某些產(chǎn)品抗鹽霧腐蝕、抗腐蝕性氣體腐蝕的能力。試驗(yàn)結(jié)果表明，節(jié)約了 的人力、財(cái)力、物力。

二氧化硫/鹽霧腐蝕試驗(yàn)箱參照標(biāo)準(zhǔn)：
本腐蝕試驗(yàn)設(shè)備嚴(yán)格按照我國(guó)頒布國(guó)家軍用鹽霧試驗(yàn)標(biāo)準(zhǔn)GJB 150.11、電工電子產(chǎn)品鹽霧試驗(yàn)的標(biāo)準(zhǔn)
GB 2423.17、GB/9789-88《金屬和其他非有機(jī)覆蓋層通常凝露下的二氧化硫腐蝕試驗(yàn)》和參照德國(guó)標(biāo)準(zhǔn)DIN 50018—《飽和環(huán)境下的二氧化硫腐蝕試驗(yàn)》制作；
用于金屬覆蓋層的鹽霧試驗(yàn)標(biāo)準(zhǔn)GB 6458、GB 6459、GB6460；專門用于考核輕工產(chǎn)品電鍍層的鹽霧試驗(yàn)標(biāo)準(zhǔn)GB 5938、GB 5939、GB 5940；主要適用于油漆層的鹽霧試驗(yàn)標(biāo)準(zhǔn)GB 1771標(biāo)準(zhǔn)及上目前正在使用的有關(guān)鹽霧腐蝕和二氧化硫、硫化氫氣體腐蝕的其他標(biāo)準(zhǔn)。
滿足試驗(yàn)方法：中性鹽霧試驗(yàn)（NSS試驗(yàn)）、鹽霧試驗(yàn)（SS試驗(yàn)）、醋酸鹽霧試驗(yàn)（ASS試驗(yàn)）、銅加速醋酸鹽霧試驗(yàn)（CASS試驗(yàn)）等鹽霧試驗(yàn)方法；

技 術(shù) 指 標(biāo)：
1.1．規(guī)格型號(hào)：Y/SO2-300L型
1.3 溫度范圍：RT～40（±2）℃
1.4. 濕度范圍：93%～98%R?H
1.5. 溫度均勻度：≤2℃
1.6. 溫度波動(dòng)度：±0.5℃
1.7. 濕度均勻度：+2% -3% R.H
1.8. 鹽霧沉降量：1～2mL/80cm2 ?
1.9．噴霧方式：氣動(dòng)式，連續(xù)、間斷噴霧可隨意調(diào)節(jié)
1.10．氣體產(chǎn)生方式: 鋼瓶法
1.11.二氧化硫氣體濃度：0.1～1%(體積百分比)
1.12. 氣源壓力：0.2～0.4mPa